甲基锡合成沉淀物（Small--铵根离子修饰氧化锡界面）

2023-10-05 阅读 980 评论 0

摘要：（理解和翻译不当之处，恳请各位领导、老师、前辈、同行批评指正）点击文末阅读原文可获得原文链接https://onlinelibrary.wiley.com/doi/10.1002/smll.202204173钝化是提高功率转换效率(PCE)，减少与表面陷阱和缺陷相关的迟滞，调整不匹配的能级的常用方法

（理解和翻译不当之处，恳请各位领导、老师、前辈、同行批评指正）

甲基锡合成沉淀物（Small--铵根离子修饰氧化锡界面）(1)

点击文末阅读原文可获得原文链接

https://onlinelibrary.wiley.com/doi/10.1002/smll.202204173

钝化是提高功率转换效率(PCE)，减少与表面陷阱和缺陷相关的迟滞，调整不匹配的能级的常用方法。本文报道了一种利用氯化铵(AC)控制锡氧化物(SnO2)正反面的氯(Cl)和铵离子(NH4 )来提高钝化效果的方法。在SnO2沉积前对铟锡氧化物(ITO)进行AC预处理，以改进钝化方法，并比较完全分离的NH4 和Cl钝化效果，最终在SnO2表面成功分离出单独的NH4 ，产生氨(NH3)和Cl。研究表明，NH4 的多功能愈合效应归因于AC预处理是SnO2结晶的基础，并通过调节ITO/SnO2和SnO2/钙钛矿的双界面能级来增强光载流子的传输。通过密度泛函理论计算，解释了钝化剂从Cl到NH4 如何更有效地抑制由水合SnO2表面缺陷引起的非辐射复合。因此，增强光载流子输运显著提高了优越的开路电压1.180 V，抑制了迟滞，这导致AC预处理器件的PCE为22.25%，比AC后处理器件高3.000%。

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甲基锡合成沉淀物（Small--铵根离子修饰氧化锡界面）(2)